來源：學術之家整理 2025-03-18 15:36:27
《Ieee Transactions On Plasma Science》中文名稱：《IEEE Transactions On Plasma Science》，創刊于1973年，由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商出版，出版周期Bimonthly。
范圍涵蓋等離子體科學理論和應用的各個方面。它包括以下領域：磁流體力學；熱電子學和等離子體二極管；基本等離子體現象；氣態電子學；微波/等離子體相互作用；電子、離子和等離子體源；空間等離子體；強電子和離子束；激光-等離子體相互作用；等離子體診斷；等離子體化學和加工；固態等離子體；等離子體加熱；用于受控聚變研究的等離子體；高能量密度等離子體；等離子體物理的工業/商業應用；等離子體波和不穩定性；以及高功率微波和亞毫米波的產生。
旨在及時、準確、全面地報道國內外PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS工作者在該領域的科學研究等工作中取得的經驗、科研成果、技術革新、學術動態等。
| 文章引用名稱 | 引用次數 |
| Overview of the HCPB Researc... | 12 |
| Two-Wave Cherenkov Oscillato... | 12 |
| High-Performance Filtering A... | 11 |
| Neutron Diagnostics in the L... | 10 |
| Characterization of a Compac... | 10 |
| A Primer on Pulsed Power and... | 10 |
| Preparation and Commissionin... | 9 |
| Recent Progress in the WCLL ... | 9 |
| Corona Discharge-Induced Rai... | 9 |
| Bifurcation Analysis for Dus... | 8 |
| 被引用期刊名稱 | 數量 |
| IEEE T PLASMA SCI | 2237 |
| PHYS PLASMAS | 585 |
| J PHYS D APPL PHYS | 364 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 296 |
| J APPL PHYS | 236 |
| AIP ADV | 211 |
| FUSION ENG DES | 209 |
| IEEE ACCESS | 201 |
| IEEE T ELECTRON DEV | 180 |
| PLASMA SCI TECHNOL | 172 |
| 引用期刊名稱 | 數量 |
| IEEE T PLASMA SCI | 2237 |
| PHYS PLASMAS | 882 |
| J PHYS D APPL PHYS | 759 |
| IEEE T MAGN | 593 |
| J APPL PHYS | 583 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 427 |
| APPL PHYS LETT | 341 |
| PHYS REV LETT | 300 |
| REV SCI INSTRUM | 278 |
| IEEE T DIELECT EL IN | 268 |
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