《Optics And Laser Technology》中文名稱(chēng)：《光學(xué)和激光技術(shù)》，創(chuàng)刊于1968年，由Elsevier Ltd出版商出版，出版周期Bimonthly。

《光學(xué)與激光技術(shù)》旨在為光學(xué)和激光技術(shù)開(kāi)發(fā)和應(yīng)用相關(guān)的科學(xué)和工程研究領(lǐng)域提供廣泛的高質(zhì)量研究和評(píng)論論文的出版載體。描述這些領(lǐng)域原創(chuàng)工作的論文在接受出版之前要經(jīng)過(guò)嚴(yán)格的評(píng)審。

光學(xué)與激光技術(shù)的范圍包括但不限于以下領(lǐng)域：

?所有類(lèi)型激光器的開(kāi)發(fā)

?光電器件和光子學(xué)的開(kāi)發(fā)

?新光子學(xué)和光學(xué)概念的開(kāi)發(fā)

?傳統(tǒng)光學(xué)、光學(xué)儀器和組件的開(kāi)發(fā)

?光學(xué)計(jì)量技術(shù)，包括干涉測(cè)量和光纖傳感器

?激光雷達(dá)和其他非接觸式光學(xué)測(cè)量技術(shù)，包括熱和流體流動(dòng)中的光學(xué)方法

?激光在材料加工、光學(xué)無(wú)損檢測(cè)顯示（包括全息術(shù)）和光通信中的應(yīng)用

?激光安全領(lǐng)域的研究和開(kāi)發(fā)，包括對(duì)激光應(yīng)用造成的危害的研究（激光安全、危害激光煙霧）

?光學(xué)計(jì)算和光學(xué)信息處理的發(fā)展

?新光學(xué)材料的發(fā)展

?新光學(xué)表征方法和技術(shù)的發(fā)展

?量子光學(xué)的發(fā)展

?光輔助微納米制造方法和技術(shù)的發(fā)展

?納米光子學(xué)和生物光子學(xué)的發(fā)展

?成像處理和系統(tǒng)的發(fā)展

投稿《Optics And Laser Technology》需要準(zhǔn)備的文件可詳細(xì)閱讀以下要求：

文章要求：

1、建議稿件控制10頁(yè)以上，文章撰寫(xiě)語(yǔ)言為英語(yǔ)；（單欄格式，單倍行距，內(nèi)容10號(hào)字體，文稿類(lèi)型包含：原創(chuàng)研究(Original Research)、案例報(bào)告(Case Report)、文獻(xiàn)綜述(Literature Review)等；文件格式包含word、PDF、LaTeX等。

2、稿件重復(fù)率控制10%以?xún)?nèi)，論文務(wù)必保證原創(chuàng)性、圖標(biāo)、公式、引文等要素齊備，保證附屬資料的完整。已發(fā)表或引用過(guò)度的文章將不會(huì)被出版和檢索，禁止一稿多投，拒絕抄襲、機(jī)械性的稿件。

3、稿件必須有較好的英語(yǔ)表達(dá)水平，有圖，有表，有公式，有數(shù)據(jù)或設(shè)計(jì)，有算法（方案，模型），實(shí)驗(yàn)，仿真等；參考文獻(xiàn)控制25條以上，參考文獻(xiàn)引用一半以上控制在近5年以?xún)?nèi)。

圖片和圖表要求：

1、建議使用TIFF、EPS、JPEG格式 ，TIFF格式 使用LZW壓縮。

2、文件大小最大不超過(guò)20MB，不要以單個(gè)文件的形式上傳數(shù)據(jù)。

3、彩色圖片的分辨率≥300dpi；黑白圖片的分辨率在≥500dpi；line art圖片類(lèi)型的分辨率≥1000dpi；色彩模式建議采用RGB，除非期刊注明要CMYK。

4、線(xiàn)條不要細(xì)于0.25pt,也不能太粗，超過(guò)1.5pt,過(guò)細(xì)或過(guò)粗都影響美觀(guān)。

5、表格一般和manuscrript放置在一個(gè)word文檔里部分期刊 需要單獨(dú)上傳表格。

作者信息：

1、包括作者姓名、最高學(xué)位，作者單位（精確到部門(mén)），郵箱，地址，郵編，關(guān)鍵詞，內(nèi)容，總結(jié)，項(xiàng)目基金，參考文獻(xiàn)，作者相片+簡(jiǎn)介（一定要確保作者信息準(zhǔn)確無(wú)誤，提交稿件之后這部分不能再作改動(dòng)）。

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